对于尚未公开的新化合物，谱图解析或需即时确认的物质，借助图谱仿真的特性，有助于推演和核实其构造。不过，常规的仿真设定以CDCl3为基准，这导致在运用其他氘代试剂，诸如DMSO、MeOD，或针对更高磁场强度进行仿真的情况下，结果会出现偏差，存在一定的制约。本期《有机合成基础技能》介绍了改进后的谱图预测功能，能够协助研究者选择合适的氘代溶剂mestrenova修改溶剂，并确定所需的场强。

图一：模拟默认为CDCl3 

修改氘代溶剂与场强

现有两种氘代试剂，分别是CDCl3和氘代DMSO，需要通过文件选项调出参数设定界面，能够将氢谱介质调整为DMSO，也可以将频率数值改成更通行的数值，调整完毕后按确认键，再次进行计算就能获得符合要求的图谱。

修改氘代溶剂与场强

在预测能力方面，它超越常规预测，能处理更多种类的氘代溶剂，还能预测二维谱图mestrenova修改溶剂，比如HSQC这类谱图。

操作时，须先画出化学物质，然后选中它来进行分析。调整分析步骤如下：→NMR ，选择氢谱或碳谱类型，点击More来查看其他选项。可以设定场强，更改氘代溶剂种类，氢谱能使用的氘代溶剂有氯仿-d、DMSO-d、丙酮-d以及甲醇-d。碳谱除了这些氘代溶剂，还能选用苯-d。

本期《有机合成基础技能》介绍了调整谱图预测功能的方法，旨在协助研究者选择合适的氘代溶剂和场强强度。具体操作方法，可以参考相关资料，此外，还可以查阅以下资料，包括本推文开篇的第一条内容，它对初学者如何运用这些功能提供了指导。

关注Org.Chem，解锁更多精彩

如有侵权请联系删除！